Microstructure-dependent conformal atomic layer deposition on 3D nanotopography
The capability of atomic layer deposition (ALD) to coat conformally complex 3D nanotopography has been examined by depositing amorphous, polycrystalline, and single-crystal TiO(2) films over SnO(2) nanowires (NWs). Structural characterizations reveal a strong correlation between the surface morpholo...
Ausführliche Beschreibung
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 28(2012), 45 vom: 13. Nov., Seite 15809-15
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| 1. Verfasser: |
Li, Qianqian
(VerfasserIn) |
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| Weitere Verfasser: |
Dong, Cezhou,
Nie, Anmin,
Liu, Jiabin,
Zhou, Wu,
Wang, Hongtao |
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| Format: | Online-Aufsatz
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| Sprache: | English |
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| Veröffentlicht: |
2012
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| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
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| Schlagworte: | Journal Article |
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