Enhanced lithographic imaging layer meets semiconductor manufacturing specification a decade early

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 24(2012), 19 vom: 15. Mai, Seite 2608-13
1. Verfasser: Tseng, Yu-Chih (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Mane, Anil U, Elam, Jeffrey W, Darling, Seth B
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2012
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article Research Support, U.S. Gov't, Non-P.H.S. Silicon Dioxide 7631-86-9 Polymethyl Methacrylate 9011-14-7 Aluminum Oxide LMI26O6933