Role of positive ions in determining the deposition rate and film chemistry of continuous wave hexamethyl disiloxane plasmas

© 2011 American Chemical Society

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 27(2011), 19 vom: 04. Okt., Seite 11943-50
1. Verfasser: Michelmore, Andrew (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Bryant, Paul M, Steele, David A, Vasilev, Krasimir, Bradley, James W, Short, Robert D
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2011
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:Journal Article Research Support, Non-U.S. Gov't Ions Membranes, Artificial Siloxanes hexamethyldisiloxane D7M4659BPU