Deposition of dense siloxane monolayers from water and trimethoxyorganosilane vapor

A convenient, laboratory-scale method for the vapor deposition of dense siloxane monolayers onto oxide substrates was demonstrated. This method was studied and optimized at 110 °C under reduced pressure with the vapor of tetradecyltris(deuteromethoxy)silane, (CD(3)O)(3)Si(CH(2))(13)CH(3), and water...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1999. - 27(2011), 16 vom: 16. Aug., Seite 9928-35
1. Verfasser:	Lowe, Randall D (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Pellow, Matthew A, Stack, T Daniel P, Chidsey, Christopher E D
Format:	Online-Aufsatz
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2011
Zugriff auf das übergeordnete Werk:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:	Journal Article