Mold design rules for residual layer-free patterning in thermal imprint lithography

Mold design rules for residual layer-free patterning in thermal imprint lithography

© 2011 American Chemical Society

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 27(2011), 12 vom: 21. Juni, Seite 7944-8
1. Verfasser: Yoon, Hyunsik (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Lee, Sung Hoon, Sung, Seung Hyun, Suh, Kahp Y, Char, Kookheon
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2011
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:Journal Article
Online verfügbar Volltext