Mechanophotopatterning on a photoresponsive elastomer

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 23(2011), 17 vom: 03. Mai, Seite 1977-81
1. Verfasser: Kloxin, Christopher J (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Scott, Timothy F, Park, Hee Young, Bowman, Christopher N
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2011
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article Research Support, N.I.H., Extramural Research Support, U.S. Gov't, Non-P.H.S. Elastomers