Wetting properties of polycrystalline TiO2 surfaces : a scaling approach to the roughness factors
This work presents a thorough study on the wettability of polycrystalline anatase TiO(2) thin films prepared at 250 °C in a microwave plasma enhanced chemical vapor deposition (MW-PECVD) reactor with Ar/O(2) plasmas. Anatase polycrystalline thin films with different microstructures, textures, and su...
Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 26(2010), 20 vom: 19. Okt., Seite 15875-82 |
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Format: | Online-Aufsatz |
Sprache: | English |
Veröffentlicht: |
2010
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Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids |
Schlagworte: | Journal Article |
Online verfügbar |
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