High-pressure chemical deposition for void-free filling of extreme aspect ratio templates

Détails bibliographiques
Publié dans:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 22(2010), 41 vom: 02. Nov., Seite 4605-11
Auteur principal: Baril, Neil F (Auteur)
Autres auteurs: Keshavarzi, Banafsheh, Sparks, Justin R, Krishnamurthi, Mahesh, Temnykh, Ivan, Sazio, Pier J A, Peacock, Anna C, Borhan, Ali, Gopalan, Venkatraman, Badding, John V
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2010
Accès à la collection:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Sujets:Journal Article Research Support, Non-U.S. Gov't Research Support, U.S. Gov't, Non-P.H.S. Silicon Z4152N8IUI