Plasma-enhanced synthesis of thin fluoropolymer layers with low Raman and fluorescence backgrounds
Radio-frequency (RF) plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) provides a promising way to deposit extremely hydrophobic, highly adherent nanometer- to micrometer-thick films with thermal stability, a low coefficient of friction, a low dielectric constant, and a low value of surface energy....
Ausführliche Beschreibung
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1991. - 24(2008), 16 vom: 19. Aug., Seite 8672-7
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1. Verfasser: |
Jiang, Hongquan
(VerfasserIn) |
Weitere Verfasser: |
Jantan, M K,
Manolache, S,
Denes, F S,
Lagally, M G |
Format: | Online-Aufsatz
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Sprache: | English |
Veröffentlicht: |
2008
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Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
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Schlagworte: | Journal Article
Research Support, U.S. Gov't, Non-P.H.S.
Fluorine Compounds |