Plasma-enhanced synthesis of thin fluoropolymer layers with low Raman and fluorescence backgrounds
Radio-frequency (RF) plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) provides a promising way to deposit extremely hydrophobic, highly adherent nanometer- to micrometer-thick films with thermal stability, a low coefficient of friction, a low dielectric constant, and a low value of surface energy....
Ausführliche Beschreibung
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1985. - 24(2008), 16 vom: 19. Aug., Seite 8672-7
|
|---|
| 1. Verfasser: |
Jiang, Hongquan
(VerfasserIn) |
|---|
| Weitere Verfasser: |
Jantan, M K,
Manolache, S,
Denes, F S,
Lagally, M G |
|---|
| Format: | Online-Aufsatz
|
|---|
| Sprache: | English |
|---|
| Veröffentlicht: |
2008
|
|---|
| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
|
|---|
| Schlagworte: | Journal Article
Research Support, U.S. Gov't, Non-P.H.S.
Fluorine Compounds |
|---|