Plasma-enhanced synthesis of thin fluoropolymer layers with low Raman and fluorescence backgrounds

Radio-frequency (RF) plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) provides a promising way to deposit extremely hydrophobic, highly adherent nanometer- to micrometer-thick films with thermal stability, a low coefficient of friction, a low dielectric constant, and a low value of surface energy....

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1991. - 24(2008), 16 vom: 19. Aug., Seite 8672-7
1. Verfasser: Jiang, Hongquan (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Jantan, M K, Manolache, S, Denes, F S, Lagally, M G
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2008
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:Journal Article Research Support, U.S. Gov't, Non-P.H.S. Fluorine Compounds