Formation of aromatic siloxane self-assembled monolayers
We describe reproducible protocols for the chemisorption of self-assembled monolayers (SAMs), useful as imaging layers for nanolithography applications, from p-chloromethylphenyltrichlorosilane (CMPS) and 1-(dimethylchlorosilyl)-2-(p,m-chloromethylphenyl)ethane on native oxide Si wafers. Film chemis...
Ausführliche Beschreibung
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 24(2008), 8 vom: 15. Apr., Seite 3888-96
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| 1. Verfasser: |
Brandow, Susan L
(VerfasserIn) |
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| Weitere Verfasser: |
Chen, Mu-San,
Dulcey, Charles S,
Dressick, Walter J |
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| Format: | Online-Aufsatz
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| Sprache: | English |
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| Veröffentlicht: |
2008
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| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
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| Schlagworte: | Journal Article
Research Support, U.S. Gov't, Non-P.H.S.
Hydrocarbons, Chlorinated
Silanes
Siloxanes
p-chloromethylphenyltrichlorosilane |
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