Photocatalytic patterning of monolayers for the site-selective deposition of quantum dots onto TiO2 surfaces

A novel photochemical mechanism is reported for the site-selective deposition of quantum dots onto nanocrystalline TiO2 films. The patterning mechanism involves the combination of surfactant-mediated self-assembly and monolayer photolithography. In the self-assembly process, CdS and CdSe quantum dot...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 23(2007), 6 vom: 13. März, Seite 3432-9
1. Verfasser:	Dibbell, Rachel S (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Soja, Gregory R, Hoth, Ruth M, Watson, David F
Format:	Aufsatz
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2007
Zugriff auf das übergeordnete Werk:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:	Journal Article