Preliminary studies in the electrodeposition of PbSe/PbTe superlattice thin films via electrochemical atomic layer deposition (ALD)

This paper concerns the electrochemical growth of compound semiconductor thin film superlattice structures using electrochemical atomic layer deposition (ALD). Electrochemical ALD is the electrochemical analogue of atomic layer epitaxy (ALE) and ALD, methods based on nanofilm formation an atomic lay...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 22(2006), 25 vom: 05. Dez., Seite 10590-5
1. Verfasser:	Vaidyanathan, Raman (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Cox, Steven M, Happek, Uwe, Banga, Dhego, Mathe, Mkhulu K, Stickney, John L
Format:	Aufsatz
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2006
Zugriff auf das übergeordnete Werk:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:	Journal Article