Fabrication of arrays of sub-20-nm silica walls via photolithography and solution-based molecular coating
We report herein fabrication of arrays of sub-20-nm silica walls via photolithography and the surface sol-gel process. A photolithographically fabricated line template on a silicon wafer was coated with a silica nanolayer using the surface sol-gel process, and then the topmost portion of the silica...
| Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 22(2006), 21 vom: 10. Okt., Seite 9057-61 |
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| 1. Verfasser: | |
| Weitere Verfasser: | , |
| Format: | Aufsatz |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
2006
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| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids |
| Schlagworte: | Journal Article |