Thermal behavior of perfluoroalkylsiloxane monolayers on the oxidized Si(100) surface

The thermal stability of perfluoralkylsiloxane monolayers in a vacuum is investigated via X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) for temperatures up to 600 degrees C. 1H,1H,2H,2H,-perfluorodecyltrichlorosilane (FDTS) monolayers are deposited on oxidized Si(100) surfaces from the vapor phase with var...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 22(2006), 6 vom: 14. März, Seite 2726-30
1. Verfasser: Fréchette, Joëlle (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Maboudian, Roya, Carraro, Carlo
Format: Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2006
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:Journal Article