Dynamic behavior of hydrogen in silicon nitride and oxynitride films made by low-pressure chemical vapor deposition
| Veröffentlicht in: | Physical review. B, Condensed matter. - 1985. - 48(1993), 8 vom: 15. Aug., Seite 5444-5456 |
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| Weitere Verfasser: | , , , , |
| Format: | Aufsatz |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
1993
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| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Physical review. B, Condensed matter |
| Schlagworte: | Journal Article |