Effects of annealing on hydrogen microstructure in boron-doped and undoped rf-sputter-deposited amorphous silicon

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Physical review. B, Condensed matter. - 1985. - 48(1993), 4 vom: 15. Juli, Seite 2175-2182
1. Verfasser: Mitra (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Gleason, Jia, Shinar
Format: Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 1993
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Physical review. B, Condensed matter
Schlagworte:Journal Article