Effects of annealing on hydrogen microstructure in boron-doped and undoped rf-sputter-deposited amorphous silicon
Veröffentlicht in: | Physical review. B, Condensed matter. - 1985. - 48(1993), 4 vom: 15. Juli, Seite 2175-2182 |
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Format: | Aufsatz |
Sprache: | English |
Veröffentlicht: |
1993
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Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Physical review. B, Condensed matter |
Schlagworte: | Journal Article |