Stress-induced self-organization of nanoscale structures in SiGe/Si multilayer films

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Physical review. B, Condensed matter. - 1985. - 53(1996), 24 vom: 15. Juni, Seite 16334-16337
1. Verfasser: Teichert (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Lagally, Peticolas, Bean, Tersoff
Format: Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 1996
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Physical review. B, Condensed matter
Schlagworte:Journal Article