Range profiles in self-ion-implanted crystalline Si

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Physical review. B, Condensed matter. - 1985. - 52(1995), 21 vom: 01. Dez., Seite 15170-15175
1. Verfasser: Nordlund (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Keinonen, Rauhala, Ahlgren
Format: Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 1995
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Physical review. B, Condensed matter
Schlagworte:Journal Article