Fractal growth of silicon-rich domains during annealing of aluminum thin films deposited on silica

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Physical review. E, Statistical physics, plasmas, fluids, and related interdisciplinary topics. - 1993. - 54(1996), 1 vom: 01. Juli, Seite 599-604
1. Verfasser: Balazs (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Fleury V, Duclos, Van Herpen A
Format: Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 1996
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Physical review. E, Statistical physics, plasmas, fluids, and related interdisciplinary topics
Schlagworte:Journal Article
Beschreibung
Beschreibung:Date Revised 20.11.2019
published: Print
Citation Status PubMed-not-MEDLINE
ISSN:1063-651X