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Shaw, Matthew T
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1
Fabrication of ordered, large scale, horizontally-aligned si nanowire arrays based on an in situ hard mask block copolymer approach
par
Ghoshal, Tandra
Publié dans:
Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
(2014)
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2
Molecularly functionalized silicon substrates for orientation control of the microphase separation of PS-b-PMMA and PS-b-PDMS block copolymer systems
par
Borah, Dipu
Publié dans:
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
(2013)
Autres auteurs:
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...
Shaw
,
Matthew
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3
Study on the combined effects of solvent evaporation and polymer flow upon block copolymer self-assembly and alignment on topographic patterns
par
Fitzgerald, Thomas G
Publié dans:
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
(2009)
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...
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,
Matthew
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