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1
Determination of the electron escape depth for NEXAFS spectroscopy
von
Sohn, K E
Veröffentlicht in:
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
(2009)
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J
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2
The effects of network structure on the resistance of silane coupling agent layers to water-assisted crack growth
von
Benkoski, J J
Veröffentlicht in:
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
(2004)
Weitere Verfasser:
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