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New modeling of reflection interference contrast microscopy including polarization and numerical aperture effects application to nanometric distance measurements and object profile...
von
Theodoly, O
Veröffentlicht in:
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
(2010)
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UV-induced grafting processes with in situ formed photomask for micropatterning of two-component biomolecules
von
Tang, S C
Veröffentlicht in:
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
(2010)
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