Eight In. Wafer-Scale Epitaxial Monolayer MoS2

© 2024 The Authors. Advanced Materials published by Wiley‐VCH GmbH.

Détails bibliographiques
Publié dans:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 36(2024), 30 vom: 19. Juli, Seite e2402855
Auteur principal: Yu, Hua (Auteur)
Autres auteurs: Huang, Liangfeng, Zhou, Lanying, Peng, Yalin, Li, Xiuzhen, Yin, Peng, Zhao, Jiaojiao, Zhu, Mingtong, Wang, Shuopei, Liu, Jieying, Du, Hongyue, Tang, Jian, Zhang, Songge, Zhou, Yuchao, Lu, Nianpeng, Liu, Kaihui, Li, Na, Zhang, Guangyu
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2024
Accès à la collection:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Sujets:Journal Article 2D semiconductor chemical vapor deposition epitaxial growth monolayer MoS2 wafer scale