Bottom-Up-Etching-Mediated Synthesis of Large-Scale Pure Monolayer Graphene on Cyclic-Polishing-Annealed Cu(111)

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Détails bibliographiques
Publié dans:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 34(2022), 8 vom: 24. Feb., Seite e2108608
Auteur principal: Yao, Wenqian (Auteur)
Autres auteurs: Zhang, Jianing, Ji, Jie, Yang, He, Zhou, Binbin, Chen, Xin, Bøggild, Peter, Jepsen, Peter U, Tang, Jilin, Wang, Fuyi, Zhang, Li, Liu, Jiahui, Wu, Bin, Dong, Jichen, Liu, Yunqi
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2022
Accès à la collection:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Sujets:Journal Article etching grain-boundary migration monolayer graphene single-crystal Cu(111)