Chemical Vapor Deposition of Azidoalkylsilane Monolayer Films
N3-functionalized monolayers on silicon wafer substrates are prepared via the controlled vapor-phase deposition of 11-azidoundecyltrimethoxysilanes at reduced pressure and elevated temperature. The quality of the layer is assessed using contact angle, attenuated total reflectance Fourier transform i...
Ausführliche Beschreibung
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 34(2018), 4 vom: 30. Jan., Seite 1400-1409
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| 1. Verfasser: |
Vos, Rita
(VerfasserIn) |
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| Weitere Verfasser: |
Rolin, Cedric,
Rip, Jens,
Conard, Thierry,
Steylaerts, Tim,
Cabanilles, Maria Vidal,
Levrie, Karen,
Jans, Karolien,
Stakenborg, Tim |
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| Format: | Online-Aufsatz
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| Sprache: | English |
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| Veröffentlicht: |
2018
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| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
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| Schlagworte: | Journal Article
Research Support, Non-U.S. Gov't |
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