Top-down approaches to the formation of silica nanoparticle patterns

This article reports a simple, versatile approach to the fabrication of lithographically defined mesoscopic colloidal silica nanoparticle patterns over large areas using spin-coating, interferometric lithography, and reactive-ion etching. One-dimensional nanoparticle films (bands) and 2D discs, diam...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 23(2007), 10 vom: 08. Mai, Seite 5377-85
1. Verfasser:	Xia, Deying (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Li, Dong, Ku, Zahyun, Luo, Ying, Brueck, S R J
Format:	Aufsatz
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2007
Zugriff auf das übergeordnete Werk:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:	Journal Article Research Support, U.S. Gov't, Non-P.H.S. Silicon Dioxide 7631-86-9