Interfacial effects on moisture absorption in thin polymer films

Moisture absorption in model photoresist films of poly(4-hydroxystryene) (PHOSt) and poly(tert-butoxycarboxystyrene) (PBOCSt) supported on silicon wafers was measured by X-ray and neutron reflectivity. The overall thickness change in the films upon moisture exposure was found to be dependent upon th...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 20(2004), 13 vom: 22. Juni, Seite 5285-90
1. Verfasser:	Vogt, Bryan D (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Soles, Christopher L, Jones, Ronald L, Wang, Chia-Ying, Lin, Eric K, Wu, Wen-li, Satija, Sushil K, Goldfarb, Dario L, Angelopoulos, Marie
Format:	Aufsatz
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2004
Zugriff auf das übergeordnete Werk:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:	Journal Article