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1
Removal Analysis of Residual Photoresist Particles Based on Surface Topography Affected by Exposure Times of Ultraviolet and Developer Solution
par
Park, Jinwon
Publié dans:
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
(2022)
Autres auteurs:
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...
Lee
,
Jaehong
...
”
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2
Recent Advances in 1D Stretchable Electrodes and Devices for Textile and Wearable Electronics Materials, Fabrications, and Applications
par
Lee
,
Jaehong
Publié dans:
Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
(2020)
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3
Conductive fiber-based ultrasensitive textile pressure sensor for wearable electronics
par
Lee
,
Jaehong
Publié dans:
Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
(2015)
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